荷蘭正式禁售DUV光刻機，中方別無選擇，只能堅定自主制造破局

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從去年9月荷蘭宣布對我國實施新的光刻機設備出口限制以來，正好過去了一年的時間。無論是深紫外浸沒式光刻機，還是更先進的極紫外光刻機，這兩款設備都已經完全登上禁售名單了。

深紫外浸沒式光刻機，也就是 DUV光刻機，而另一款光刻機則是 EUV 光刻機。荷蘭的做法并不奇怪，本身是為了執行華盛頓下達的命令。而且早在2018年，美國就已經持續向荷蘭方面施加壓力，要求阿斯麥徹底終止向中國出口更先進的光刻機設備型號。

對美國人來說，這是他們采取的一系列限制步驟，主要目的是要把中國限制在光刻機高新技術之外，同時盡可能的將中國排擠出全球的半導體產業體系，只有這樣，美國的半導體產業才能壟斷和主導全球的產業鏈。

從技術的角度看，上述兩款設備究竟有著哪些不同？我國要突破美國的技術封鎖和限制，現階段采取的主要措施又有哪些？最后就是荷蘭方面，他們究竟又有著怎樣的想法呢？難道就不擔心中國突破技術封鎖之后徹底喪失最大的設備市場嗎？

要回答這幾個問題，先得從技術層面來看待不同設備之間的具體區別。

DUV技術是荷蘭獨立發展的

荷蘭是光刻機設備制造大國，基本上壟斷了目前市面上所有常見的光刻機設備，其中的 DUV技術就是有荷蘭獨立發展起來的。

在光刻機技術層面，曾經存在著一系列的路徑之爭，經過多年的發展，有些技術得到了更大規模的實際驗證，才不斷演化了出來。從2002年前后開始，DUV技術就演化出了兩條主要方向。

詳細的技術路徑這里就不多做解釋了，簡單來看的話，這方面的技術，荷蘭的阿斯麥是一步一步獨立發展起來的，而且掌握了較為成熟的方法。除此之外，日本的光刻機制造企業同樣在這方面也有所發展。

正是因為 DUV技術取得了實質性突破，所以從那之后，阿斯麥就成為了整個行業里的龍頭。2003年，阿斯麥成功推出第一臺浸沒式光刻機。值得一提的是，3年之后，日本的企業雖然也推出了類似的光刻機產品，但此時國際光刻市場早就被阿斯麥全部占領。

尤其是阿斯麥已經率先和芯片制造商達成了緊密的合作聯系，所以這不光是技術上的成功，更是技術運用到產品上之后形成的產業鏈成功。當時的阿斯麥和臺積電互利合作，在整個行業內實現了雙贏，并取得了更大規模的發展。

此時運用的技術可以制造7nm到130nm范圍內的芯片，而這一領域的芯片占到了全球芯片供應的六成以上。換句話說，阿斯麥和芯片制造商合作就可以壟斷全球絕大部分的芯片市場，其他企業由于沒有核心技術，也就逐漸被排擠出去了。

正是在這種局面下，阿斯麥此后的市場地位逐步提高，并且很快超越日本的光刻機設備制造商，成為全球的龍頭企業，這種壟斷地位一直持續至今。

有意思的是，這其中相關的技術主要來自臺積電，所以美國在DUV技術領域反倒不具備主導地位。這就是為什么阿斯麥向我國出口類似的光刻機設備，根本不用得到美國的授權，因為這些技術是阿斯麥獨立擁有的。

EUV技術有美國資本的身影

EUV光刻機是另外的技術邏輯，而且荷蘭的阿斯麥不再具備獨立的能力，因為這方面有美國人的參與。

早在上世紀90年代末，美國就采取了一系列對阿斯麥的滲透措施，因為站在美國的角度看，他們絕對不允許外國的企業能夠在半導體領域占據主導地位。在此之前，美國已經迫使日本在半導體領域簽署了城下之盟，徹底把日本打敗，所以美國后來自然會盯上阿斯麥。

美國人采取的具體策略是從技術和資本兩個方面一起滲透，而且美國人不擔心時間耗費的長，他們把滲透和操控當成是一個循序漸進的過程。

1997年，美國成立了 EUV LLC聯盟，簡單來說，相比于此前的技術，新的研究方向技術將更加先進，而且這項技術最初起源于英特爾與美國政府聯合研究的項目。

這個所謂的聯盟一成立，阿斯麥果然也入局了，畢竟后者作為光刻機設備領域的龍頭企業，有最新的研究方向，他們自然也不會錯過。不過在這個聯盟體系內，所有參與的研究企業，包括一些實驗室，全都是美國人的。

而且美國只允許阿斯麥一家外國公司加入聯盟，其他國外的企業，比如說日本的一些芯片設備制造商，他們也想加入，但是立刻遭到美國的拒絕。即便是阿斯麥被允許加入，美國也提前開出了條件，那就是阿斯麥必須在美國建立工廠，同時設立新的研發基地。

阿斯麥不知道的事，正是通過上述步驟，美國成功的進入了阿斯麥企業運作的體系之內，并且接近了阿斯麥的一些核心技術領域。

就這樣，等到EUV技術一步一步成熟以后，阿斯麥在這方面有很大一部分完全受制于美國。比如設備制造中，涉及到的90%的零部件全部都要進口。而且，根據此前阿斯麥和美國達成的一些協議，美國零部件的供應占比達到了55%以上。

與此同時，截止到2020年末，阿斯麥的前三大股東全都來自美國，這三大股東掌握了阿斯麥將近30%的股權。所以在 EUV 光刻機領域，實際的控制者是美國，而不是阿斯麥自己。

因此，從客觀的角度來看，美國后來不允許阿斯麥向我國出口更先進的 EUV 光刻機，阿斯麥確實得遵守，因為相關的核心技術不是獨立自主的，而是由美國人操控。

新的技術掌握著未來的光刻方向

綜合對比上面提到的兩種技術，實際上 DUV技術已經能夠滿足目前光刻機市場絕大多數的需求，因為這種技術可以覆蓋到7nm以及以上的制程要求。

簡單來說，掌握了這種技術，目前常規芯片的制造以及7nm左右芯片的制造同樣都能夠滿足。至于更先進的 EUV 技術，它的光源波長為13.5nm，而 DUV的光源波長為193nm。

區別在于，如果波長較長，就沒辦法實現更高的分辨率，所以DUV技術只能用于制造7nm以及以上的芯片，再小的芯片就不能夠制造了。EUV 技術則是向 5nm以及以下的芯片進發，掌握了更先進的技術，也就意味著未來能夠制造規模更小的芯片。

看到這里，很多人就已經明白了，美國之前就已經對我國封鎖了更先進的技術，換句話說，不允許我國在光刻機設備領域以及芯片的制造方面取得更大突破。

與此同時，在中美博弈加劇之后，美國又進一步想要封鎖 DUV技術。也就是說，在目前主流芯片制造領域，美國也想制約我們。

但問題就在于，常規的技術由阿斯麥公司獨立掌控，美國雖然向他們施壓，可阿斯麥為了自己的市場和利益需求，在這方面并沒有完全按照美國的要求行事。

但誰都知道，更先進的技術意味著光刻機和芯片制造的未來，所以美國在這方面才會收緊管制，試圖把我們徹底給逼死。

但事實上恰恰相反，在目前的 DUV技術領域，國產光刻機已經成功研發，雖然不是最先進的設備和技術，而且制造的芯片也不能夠達到最小的規模，但是在技術設備上我們取得了突破。

今年9月份，國產光刻驗證機已經正式亮相，而且研制光刻機的企業也已經開始批量制造芯片。這讓美國感到不安。

其實更不安的是阿斯麥，因為從現今的芯片制造市場來說，常規芯片的需求才是最大的市場。如果我國攻克了這方面的設備障礙，那么下一步我們就不需要購買阿斯麥的產品了。現在的情況也證明了這一點。

美國的管制措施正在失效

從根本上來說，在最新的光刻機技術領域，美國此前向阿斯麥提供過技術，而且通過這種方式逐步操控了阿斯麥的經營，所以美國才不允許阿斯麥向我國提供更先進的光刻機。

但問題在于，我國掌控著龐大的半導體市場，而且在技術領域我們并沒有停止研發的步伐，掌握最新的技術只是時間問題。何況讓美國真正感到擔憂的是，中國還具備著產業鏈以及上游原料的優勢。

換句話說，美國人掌控的技術優勢是孤立的，而且與之合作的阿斯麥也并非完全一條心。阿斯麥也有自己的想法，畢竟他們絕對不愿意親眼看著丟掉龐大的市場。

因此，阿斯麥一方面聽從美國的召喚，另一方面又想自行其是，至少在自己掌控的技術領域，他們還想與我們展開合作。但現在的問題是，隨著我們技術不斷取得突破，要不要跟阿斯麥合作已經不是他們能決定的了。

這也意味著美國所謂的技術管控正在失去效力。美國人想要壟斷技術，但實際上根本壟斷不了，因為技術的突破是一個必然發展的過程。

結語

美國人現在擔心的是我國在新技術層面進一步取得突破，同時對美國采取管制措施。荷蘭人擔心的則是他們在中國市場的份額逐步走低，而且這方面正在成為現實。

隨著國產光刻機的問世，制造常規芯片已經綽綽有余，最新的技術雖然還沒有取得突破，但是由此前的基礎和技術經驗，下一步繼續前進并取得更大的成就只是時間問題。