執意要讓中國造不出芯片？荷蘭突然下狠手，外媒：這是要逼死ASML

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今年10月，歐洲知名智庫CEPS發布了一份引發廣泛關注的報告，明確提出：歐盟應針對出口至中國的深紫外（DUV）光刻設備實施帶有制裁性質的限制措施。這一建議并非憑空設想，其背后有德國與荷蘭經濟主管部門的支持，所依據的數據更直接來源于ASML和蔡司等全球領先的半導體制造企業。

荷蘭為何持續在對華光刻機出口問題上采取強硬姿態？中國相關產業又將如何應對這場技術圍堵？

“切割”后陣痛不斷

ASML高層曾公開表示，中國市場已成為推動其DUV產品線增長的核心動力。這一判斷有著堅實的數據支撐。2024年，來自中國的收入占到了該公司全球總收入的近四成，具體比例高達38%。在某些季度，其在中國市場的銷售額甚至一度攀升至整體系統銷售的46%，顯示出極強的區域依賴性。

聚焦于DUV設備本身，這種依存關系更為顯著。當年，中國客戶接收了ASML約45%的DUV整機出貨量，并貢獻了該業務板塊超過一半（52%）的營收。如此緊密的商業聯系意味著任何政策變動都會帶來劇烈沖擊。當CEPS提出禁售構想時，資本市場迅速反應——ASML股價出現波動，多家投資機構隨即發出警示：若禁令落實，企業信用評級或將面臨下調風險。

與此同時，中國芯片制造業也深陷“ASML依賴”的結構性困境。在國內晶圓代工廠中，特別是在14納米至90納米范圍內的成熟工藝節點，ASML的光刻設備市場占有率普遍維持在80%到95%之間。正因如此，在今年上半年面對出口管制日益收緊的壓力下，國內企業紛紛加快采購步伐，承接了ASML全球DUV訂單總量的51%，形成一波搶購高峰。

這種高度互嵌的“共生型”產業鏈格局，使得單方面切斷合作無異于發動一場經濟層面的“高能打擊”。據荷蘭經濟政策分析局測算，一旦完全喪失中國市場，ASML可能不得不裁員兩成，同時導致荷蘭國內生產總值縮水0.8個百分點。

影響遠不止于單一企業。作為歐洲半導體生態的關鍵樞紐，ASML支撐著約1200家歐洲本土供應商和逾15萬個就業崗位。對此，荷蘭工商協會明確表態，批評該項提議是目光短淺且嚴重損害國家經濟利益的行為。就連地處亞洲的日本半導體設備制造商，如東京電子，也因類似出口管控政策，出現了對華銷售收入明顯下滑的現象。

全球主要芯片制造商同樣表達了深切憂慮。臺積電、三星與英特爾三大巨頭曾聯合發聲，強調保持供應鏈開放的重要性。他們警告稱，任何對關鍵設備流通的阻斷，最終都將傳導至消費端，推升全球芯片價格，使整個科技行業共同承擔代價。在深度交融的全球經濟體系中，“你中有我、我中有你”的現實決定了孤立主義舉措必將付出沉重成本。

早已密不可分

圍繞DUV光刻機的地緣博弈，不僅涉及市場份額與利潤分配，更深入到了物理制造環節的供應鏈命脈之中。在這條復雜精密的產業鏈上，中美歐三方各自掌握關鍵資源，彼此牽制，構建出一種極其脆弱卻又難以割裂的平衡狀態。

西方施加壓力的主要手段集中在設備出口及后續技術支持兩個維度。這套策略逐步升級、層層加碼。2023年6月，荷蘭率先對最先進的浸沒式DUV系統實施出口管制；僅半年之后，即2024年1月1日，迫于美方要求，荷蘭政府突然撤銷部分已批準的ASML對華出口許可。

進入2025年1月，管制范圍進一步擴展，連一些較早型號的干式DUV設備也被納入受限名單。而最具殺傷力的一擊發生在2024年10月——美國開始游說荷蘭，試圖全面禁止ASML為中國境內已安裝設備提供維修保養和技術支持服務，此舉相當于從根基上瓦解設備運行能力。

然而，ASML這臺高科技機器的致命軟肋，恰恰隱藏于中國掌控的原材料環節。據統計，其整機中有約35%的核心零部件，在生產過程中所需的稀土原料由中國供應。特別是鏑（Dy）、鋱（Tb）等重稀土元素，對于制造高精度光源系統和超穩定軸承至關重要。

中國的真正優勢并不在于其占全球36%的稀土儲量，而在于其擁有超過90%的稀土精煉加工能力，形成了事實上的產業主導地位。此外，ASML的部分DUV設備中，約五分之一的精密組件，包括光學校準模塊，由中國的配套企業直接供貨，例如上海微電子這樣的本土廠商。

就在今年10月，中國商務部宣布將12類與稀土相關的材料和技術列入出口管制目錄，這是對外部壓力的有力回應。它清晰揭示了ASML面臨的雙重中斷威脅：不僅可能失去龐大的終端市場，還可能因中方反制措施而斷供維持生產的必要原材料與核心部件。

封鎖擋不住的強大

頗具諷刺意味的是，這些旨在遏制中國半導體自主發展的DUV出口限制，反而起到了最強勁的激勵作用。正如一位前ASML工程師所言，此類禁令實際上為中國的國產設備企業送上了一次千載難逢的發展契機，極有可能在五年內加速實現關鍵技術的全面自立。

目前，上海微電子裝備集團（SMEE）自主研發的28納米DUV光刻機已完成內部測試階段，良品率高達92%，預計將于2026年正式投入量產。與此同時，中國政府設定了明確目標：力爭在今年年底前，使國內半導體設備的自主供給率達到50%。一家名為AMIES的新興科技公司也宣告成立，其使命十分明確——擺脫對ASML的技術路徑依賴，打造獨立可控的光刻解決方案。

在供應鏈上游，中國科研機構也傳來突破性進展。中國科學院成功研發出一種新型永磁材料，可部分替代傳統稀土成分，不僅性能滿足高端應用需求，且制造成本更低。每一項自主創新都在削弱外部封鎖的實際效力，同時逐步構建起一個脫離西方主導體系的全新技術生態。

當然，邁向完全自主的道路依然充滿挑戰。有消息稱，某中國企業在嘗試通過逆向解析方式復制ASML的DUV設備時遭遇失敗，甚至造成原機損壞。這充分說明高端光刻技術所蘊含的工程壁壘之高。但歷史經驗或許更具啟示意義。

有人將當前形勢比作當年盾構機行業的演變軌跡。彼時，該領域由歐美日企業壟斷，價格高昂、服務苛刻。但經過長期自主研發與產業積累，中國企業最終實現了技術突圍，并反過來占據全球多數市場份額。這一先例證明，即便起點落后，只要堅持投入，仍有機會改寫競爭格局。

以上就是關于荷蘭推動對中國實施光刻機出口限制的相關情況梳理，對于這一系列事件，您有何看法？

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