上海
《科創板日報》7日訊，在第八屆進博會上，半導體設備供應商ASML展示其部分全景光刻產品與技術。其中，DUV光刻機包括TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。《科創板日報》記者獲悉，TWINSCAN XT:260這款i-line光刻機是ASML首款可服務于先進封裝領域的光刻系統，具有大視場曝光，相較于現有機型可提高4倍生產效率；TWINSCAN NXT:870B在升級的光學器件和最新一代磁懸浮平臺的支持下，可實現每小時晶圓產量（wph）400片以上。（記者 陳俊清）
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